[发明专利]晶圆抛光用清洗剂无效
| 申请号： | 200810011689.2 | 申请日： | 2008-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101289641A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 侯军;吕冬 | 申请（专利权）人： | 大连三达奥克化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/30;H01L21/302 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116023辽宁省大连市高新技术园*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种制备方法简单、成本低、对环境无污染且可满足线宽尺寸90nm甚至更小的晶圆抛光清洗要求的晶圆抛光用清洗剂。原料及重量配比是表面活性剂5％～15％、有机碱0.01％～10％、pH调节剂5％～20％、渗透剂2％～5％、螯合剂0.1％～2％、纯水余量。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 洗剂 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆抛光用清洗剂，其特征在于原料及重量百分比如下：表面活性剂 5％～15％有机碱 0.01％～10％pH调节剂 5％～20％渗透剂 2％～5％螯合剂 0.1％～2％纯水 余量。
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