[发明专利]晶圆抛光用清洗剂

权利要求书

1.一种晶圆抛光用清洗剂，其特征在于原料及重量百分比如下：

表面活性剂        5％～15％

有机碱            0.01％～10％

pH调节剂          5％～20％

渗透剂            2％～5％

螯合剂            0.1％～2％

纯水              余量。

2.根据权利要求1所述的晶圆抛光用清洗剂，其特征在于原料及重量百分比如下：

表面活性剂        10％

有机碱            0.05％

pH调节剂          10％

渗透剂            3％

螯合剂            0.5％

纯水              余量。

3.根据权利要求1或2所述晶圆抛光用清洗剂，其特征在于所述的表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚中的至少一种，分子通式分别为R₁O(C₂H₄O)_m、R₂O(C₂H₄O)_m(C₃H₆O)_nH，其中R₁和R₂为C10-C18的烷基，m和n分别是环氧乙烷基和环氧丙烷的聚合数，聚合数为3～20。

4.根据权利要求1或2所述的晶圆抛光用清洗剂，其特征在于所述的有机碱是四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三甲基苄基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵、二甲基二羟乙基氢氧化铵中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的晶圆抛光用清洗剂，其特征在于所述的pH调节剂是二乙胺、三乙胺、乙二胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的晶圆抛光用清洗剂，其特征在于所述的渗透剂足JFC系列渗透剂。

7.根据权利要求5所述的晶圆抛光用清洗剂，其特征在于所述的螯合剂是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠盐、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、次氮基三乙酸中的至少一种。