[发明专利]光学薄膜体及光学薄膜体的制造方法无效
| 申请号： | 200810002970.X | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101241203A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 高柳利光;宫原则之;高桥博之;夏目洋之;今井贵文;户田尚宏 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;B32B37/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够容易确认光轴的轴方向，并且按照在缺陷检查中使标记不成为干扰的方式构成的光学薄膜体及该光学薄膜体的制造方法。该光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠用于保护该光学薄膜层的表面的表面保护薄膜而成，其特征在于，使与光轴相关的光轴信息介于光学薄膜层与所述表面保护薄膜之间。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜体，所述光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠用于保护该光学薄膜层的表面的表面保护薄膜而成，其特征在于，使与所述光轴相关的光轴信息介于所述光学薄膜层与所述表面保护薄膜之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810002970.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：防扬尘的建筑用板材抛光装置及其使用方法
- 下一篇：自动抛光机
