[发明专利]光学薄膜体及光学薄膜体的制造方法无效
| 申请号： | 200810002970.X | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101241203A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 高柳利光;宫原则之;高桥博之;夏目洋之;今井贵文;户田尚宏 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;B32B37/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学薄膜体，所述光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠用于保护该光学薄膜层的表面的表面保护薄膜而成，其特征在于，
使与所述光轴相关的光轴信息介于所述光学薄膜层与所述表面保护薄膜之间。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜体，其特征在于，
通过用荧光物质含有涂料，在所述表面保护薄膜上印刷所述光轴信息而形成。
3.一种光学薄膜体的制造方法，所述光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠用于保护该光学薄膜层的表面的表面保护薄膜而成，所述光学薄膜体的制造方法，至少包括：
在所述表面保护薄膜上印刷与所述光轴相关的光轴信息的印刷工序；
在贴合在所述印刷工序中已印刷光轴信息的表面保护薄膜与所述光学薄膜层时，使该光轴信息介于表面保护薄膜与光学薄膜层之间并同时进行贴合的贴合工序。
4.根据权利要求3所述的光学薄膜体的制造方法，其特征在于，
通过用荧光物质含有涂料，在所述表面保护薄膜上印刷所述光轴信息。
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