[发明专利]通过还原金属盐和喷涂气溶胶使基底金属化的改进的非电解方法有效
申请号: | 200780049799.1 | 申请日: | 2007-11-26 |
公开(公告)号: | CN101605924A | 公开(公告)日: | 2009-12-16 |
发明(设计)人: | 塞缪尔·斯特雷姆斯多厄弗尔 | 申请(专利权)人: | 喷射金属技术公司 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;C23C18/16;C23C18/34;C23C18/40 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 郑立柱;谢燕军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及通过喷涂含有氧化金属阳离子和还原剂的溶液的气溶胶来金属化任意性质基底的非电解方法,所述还原剂能够将所述阳离子转化为金属。本发明的目的是提供一种用于工业的和自动化的化学金属化方法和先进设备。该目的通过本发明的方法实现,所述方法包括用润湿液体润湿基底的预步骤-ap-;润湿结束后最多60秒,根据一连串与张驰阶段交替的喷涂阶段开始进行金属化:1)根据每种金属的内在金属化常数k调节喷涂阶段的持续时间Dp以及张驰阶段的持续时间Dr;2)调节喷涂流速。金属化喷涂通过相对于基底移动喷涂装置动态进行,从而达到周期性扫描,其中Dp对应于研究的单位表面经受连续喷涂气溶胶的持续时间,Dr对应于这部分不经受喷涂的持续时间。喷涂装置沿着在原点(O)和终点(A)之间的路径TOA移动,喷涂移动速度为VOA,然后以不喷涂移动速度VAO沿着路径TAO返回原点(O)。控制喷涂装置以及所述喷涂装置的移动体系的处理和控制单元(UCC)用于自动化该方法。 | ||
搜索关键词: | 通过 还原 金属 喷涂 气溶胶 基底 金属化 改进 电解 方法 | ||
【主权项】:
1、金属化至少部分基底表面(其后称为“需金属化表面”)的改进的非电解方法,通过合适的方法喷涂至少一种水性和/或有机气溶胶,所述气溶胶含有至少一种阳离子(氧化性)形式的金属以及至少一种还原剂,所述还原剂能够将所述金属阳离子转化为金属,所述方法基本上包括:a)选择性的,敏化和/或活化需金属化表面;b)根据至少两种喷涂阶段相继进行金属化喷涂,所述两种喷涂阶段通过张驰阶段转换:1)将相对于相同单位面积的喷涂阶段的持续时间Dp设为10-2-5s,优选为0-1-3s,将相对于相同单位面积的张驰阶段的持续时间Dr设为10-2-10s,优选为2×10-1-4s,这些喷涂阶段和张驰阶段的持续时间Dp和Dr各自相同或不同;2)调节喷涂流速,从而使氧化/还原电子比为0.01-15,优选为0.5-8,从而允许金属膜的形成,所述金属膜化学附着于基底上;c)一旦达到所需金属沉积水平,停止喷涂;其特征在于,所述改进特别的在于:-实施至少一个润湿基底的预步骤-ap-,该步骤包括使基底与至少一种润湿液体接触,从而在其至少一部分表面上形成液膜;-并且,在润湿-ap-后,在润湿结束后最多60s,优选为最多40s,更优选为最多20s,根据步骤-b-开始喷涂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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