[发明专利]用于分析样本的设备、装置和方法无效
| 申请号： | 200780042686.9 | 申请日： | 2007-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101535809A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | M·T·约翰逊;M·F·吉利斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/543 | 分类号： | G01N33/543 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘 鹏;刘 红 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于分析样本的设备(100)，该设备(100)包括：射束敏感结构(101)，其适于使得射束敏感结构(101)的一部分的电特性被撞击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102)局部地改变；样本容纳单元(103)，其适于容纳所述样本；其中所述射束敏感结构(101)和所述样本容纳单元(103)被设置成使得所述射束敏感结构(101)的所述部分的电特性的局部改变局部地改变所述样本容纳单元(103)的相应部分中的样本的分析；其中所述射束敏感结构(101)包括有机光电导体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 样本 设备 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于分析样本的设备(100)，该设备(100)包括：射束敏感结构(101)，其适于使得射束敏感结构(101)的一部分的电特性被撞击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102)局部地改变；样本容纳单元(103)，其适于容纳所述样本；其中所述射束敏感结构(101)和所述样本容纳单元(103)被设置成使得所述射束敏感结构(101)的所述部分的电特性的局部改变局部地改变所述样本容纳单元(103)的相应部分中的样本的分析特性；其中所述射束敏感结构(101)包括光电导体。
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