[发明专利]用于分析样本的设备、装置和方法

权利要求书

1.一种用于分析样本的设备(100)，该设备(100)包括：

射束敏感结构(101)，其适于使得射束敏感结构(101)的一部分的电特性被撞击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102)局部地改变；

样本容纳单元(103)，其适于容纳所述样本；

其中所述射束敏感结构(101)和所述样本容纳单元(103)被设置成使得所述射束敏感结构(101)的所述部分的电特性的局部改变局部地改变所述样本容纳单元(103)的相应部分中的样本的分析特性；

其中所述射束敏感结构(101)包括光电导体。

2.权利要求1的设备(100)，其中所述光电导体是有机光电导体。

3.权利要求1或2的设备(100)，

包括衬底(104)，其中所述射束敏感结构(101)形成在该衬底(104)上。

4.权利要求3的设备(100)，

其中所述射束敏感结构(101)是形成在所述衬底(104)上的非图案化层。

5.权利要求3的设备(100)，

其中所述射束敏感结构(101)是形成在所述衬底(104)上的图案化层。

6.权利要求4的设备(100)，

其中所述衬底(104)对于所述射束(102)而言是透明的。

7.权利要求3的设备(100)，

其中所述衬底(104)是旋转盘。

8.权利要求3的设备(200)，

包括导电结构(201)，该导电结构(201)被提供在所述衬底(104)和所述射束敏感结构(101)之间。

9.权利要求8的设备(200)，

其中所述导电结构(201)对于所述射束(102)而言是透明的。

10.权利要求8的设备(200)，

其中所述导电结构(201)是连续层。

11.权利要求8的设备(200)，

其中所述导电结构(201)被结构化，使得所述结构化的导电结构(201)的不同部件可以与不同的电压连接。

12.权利要求1或2的设备(100)，

其中所述射束敏感结构(101)适于使得该射束敏感结构(101)的所述部分的欧姆电阻被撞击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102)局部地改变。

13.权利要求1或2的设备(100)，

其中所述射束(102)是包括电磁辐射束、光束、粒子束、电子束和机械波束的组中的一个。

14.权利要求1或2的设备(100)，

包括具有负的电阻温度系数的层。

15.权利要求3的设备(100)，

其中所述衬底(104)不包括任何有源电子部件。

16.权利要求3的设备(100)，

包括集成到所述衬底(104)上的光伏电池。

17.权利要求8的设备(100)，

包括对电极(107)并且包括电压供应单元(106)，该电压供应单元(106)适于将电压，尤其是直流电压，施加在所述导电结构(201)和所述对电极(107)之间，其中所述样本容纳单元(103)位于所述射束敏感结构(101)和所述对电极(107)之间。

18.权利要求1或2的设备(100)，

包括生物相容性涂层(108)，该生物相容性涂层(108)被设置用于将所述样本容纳单元(103)与所述射束敏感结构(101)分离开来。

19.权利要求1或2的设备(100)，

适用作用后可弃的设备。

20.权利要求1或2的设备(100)，

适用作包括以下设备的组中的至少一种：传感器设备、生物传感器设备、生物芯片、片上实验室、电泳设备、样本运输设备、样本混合设备、细胞溶解设备、样本清洗设备、样本纯化设备、聚合酶链反应设备和杂化分析设备。

21.权利要求1或2的设备，其中所述光电导体的电容高于所述样本的电容。