[发明专利]衬底处理方法、程序、计算机可读的存储介质以及衬底处理系统

摘要

在本发明中，在衬底的正表面上方的要被加工的膜上执行第一次图形化，并且测量由第一次图形化所形成的图形的实际尺寸。基于第一次图形化的尺寸测量结果，然后设置第二次图形化的条件。在该情形中，设置第二次图形化的条件使得在第一次图形化的尺寸与其目标尺寸之间的差等于在第二次图形化尺寸与其目标尺寸之间的差。其后，在所设置的图形化条件下执行第二次图形化。

主权项

1、一种衬底处理方法，其在位于衬底正表面上方的相同层中的要被加工的膜上执行多次图形化，所述方法包括下述步骤：执行第一次图形化；测量由第一次图形化所形成的图形尺寸；基于第一次图形化的尺寸测量结果来设置第二次以及随后次数的图形化的条件；以及在所设置的图形化条件下执行第二次以及随后次数的图形化。