[实用新型]研磨用旋转抛光体有效
申请号: | 200720146203.7 | 申请日: | 2007-07-04 |
公开(公告)号: | CN201205685Y | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 田子千人;泷下胜久 | 申请(专利权)人: | 石原药品株式会社 |
主分类号: | B24D13/00 | 分类号: | B24D13/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 黄剑锋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本实用新型提供一种通过抑制研磨面的发热来抑制抛光痕产生的粗研磨用抛光体和精研磨用抛光体。该研磨用抛光体,通过使圆盘体旋转,并通过使圆盘体的外周面与被研磨体面接触,研磨被研磨体面,其特征在于,该圆盘体的形状是从圆盘的外周朝向中心部切除半径的2~40%的区域的一部分后的形状,构成圆盘体的外周面的素材是由从起毛布、毛毡、绒布、无纺布、毛巾料、海绵中选择的材料构成的。 | ||
搜索关键词: | 研磨 旋转 抛光 | ||
【主权项】:
1. 一种研磨用抛光体,通过使圆盘体旋转,并通过使圆盘体的外周面与被研磨体面接触,可研磨被研磨体面,其特征在于,该圆盘体是从圆盘的外周朝向中心部切除半径的2~40%的区域的一部分后的形状,且构成圆盘体的外周面的素材是由从起毛布、羊毛、绵、毛毡、绒布、无纺布、毛巾料、海绵中选择的素材构成的。
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