[实用新型]用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置无效

专利信息
申请号: 200720144196.7 申请日: 2007-09-21
公开(公告)号: CN201079923Y 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 牛晓翔;瞿治军 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04;B24B55/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 蔡光亮
地址: 201206上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置,包括底座、设置于底座上表面的凹槽,设置于凹槽内的第一喷嘴,设置于底座两端的第二喷嘴,以及第二喷嘴的供水液路,底座一端固定于化学机械研磨装置的十字金属轴,其中:凹槽靠近十字金属轴的一端延伸至底座的外壁,此端设置有第三喷嘴;凹槽远离十字金属轴的一端的侧壁上设置有第四喷嘴;底座内部设有第三喷嘴的供水液路和第四喷嘴的供水液路。本实用新型可以对研磨台间清洗装置的凹槽及凹槽内的喷嘴,以及化学机械研磨装置的十字金属轴进行在线清洗,提高了化学机械研磨装置的自清洁能力,可降低颗粒超标和制品划伤的可能性,提高制品的成品率。
搜索关键词: 用于 化学 机械 研磨 装置 清洗
【主权项】:
1.一种用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置,包括底座、设置于底座上表面的凹槽,设置于凹槽内的第一喷嘴,设置于底座两端的第二喷嘴,以及第二喷嘴的供水液路,底座一端固定于化学机械研磨装置的十字金属轴,其特征在于:所述凹槽靠近十字金属轴的一端延伸至底座的外壁,此端设置有第三喷嘴;所述凹槽远离十字金属轴的一端的侧壁上设置有第四喷嘴;所述底座内部设有第三喷嘴的供水液路和第四喷嘴的供水液路;第三喷嘴的供水液路一端与第三喷嘴连接,另一端与第二喷嘴的供水液路连通;第四喷嘴的供水液路一端与第四喷嘴连接,另一端与第二喷嘴的供水液路连通。
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