[实用新型]采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃有效
| 申请号： | 200720074609.9 | 申请日： | 2007-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN201161976Y | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 王茂良;吴斌;李志军;黄一波;葛建军;顾云 | 申请（专利权）人： | 上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人： | 罗习群 |
| 地址： | 2013*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃；该玻璃的膜层结构自玻璃基板向外依次为：玻璃/基层电介质层/吸收层/银层/保护层/中间电介质层/银层/保护层/上层电介质层。通过交流阴极的锡靶在氧氩氛围中溅射SnO2基层电介质层，利用陶瓷ZnOx材料所生成的特殊薄膜作为吸收层，使得最终产品在保持原有的低遮阳系数的前提下，以有效的增加最终产品的吸收，有效的降低了反射率。使其能满足目前大部分国家和地区为了限制光污染纷纷出台限制玻璃的可见光反射率法规，有广阔的应用范围和市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 氧化锌 陶瓷 磁控溅射 新型 结构 玻璃 | ||
【主权项】：
1、一种采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系玻璃结构，其特征在于，该玻璃的膜层结构依次为：玻璃、基层电介质层、吸收层、银层、保护层、中间电介质层、银层、保护层、上层电介质层；其中：基层电介质层；为SnO2的膜层，厚度为25nm～30nm；吸收层为：为单层的陶瓷ZnOx层，或者是NiCr/ZnOx的复合吸收层，膜层厚度为10～20nm；银层：膜层厚度为12nm；保护层：为NiCr膜层，厚度为2～3nm；中间层电介质层：为SnO2，膜层厚度为25～30nm；上层电介质层为Si3N4，膜层厚度为25～30nm。
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