[实用新型]采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及应用ZnOx陶瓷靶磁控溅射、使玻璃膜层组合成新型的膜系结构，由该新型的膜系结构，使玻璃的光学性能和热学性能达到最佳的匹配，属于无机非金属技术领域。

背景技术

市场上现有的低辐射镀膜玻璃，普遍高透低反射遮阳系数较高，而中低透透射的玻璃能满足低遮阳系数的要求但反射率又偏高，故尚没有使用能同时满足低遮阳系数和低反射率的特殊薄膜的低辐射镀膜玻璃。

采用真空磁控溅射法生产普通低辐射玻璃的膜层结构一般为：玻璃/基层电介质层/银层/阻隔保护层/上层电介质层。

基层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO₂，ZnO，Nb₂O₅，TiO₂，Si₃N₄等；

阻隔保护层一般为NiCr或者NiCrOx；

上层和中间电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO₂，ZnO，Nb₂O₅，TiO₂，Si₃N₄等；

但是，这种传统结构的低辐射玻璃，不能同时满足低遮阳系数和中低反射的条件，这是因为低遮阳系数往往要求产品有较低的反射率，在降低了遮阳系数的同时会形成了较高的反射率。随着目前许多国家和地区为了限制光污染纷纷出台限制玻璃的可见光反射率法规。这种结构的低辐射玻璃已经越来越达不到客户的要求。为了同时满足低遮阳系数和中低反射的要求，本企业发明一种采用ZnOx陶瓷靶，用陶瓷ZnOx溅射成的特殊薄膜，组合成镀膜玻璃特殊的膜系结构，开发出低遮阳和中低反射的镀膜玻璃新产品。

发明内容

为了同时满足低遮阳系数和中低反射的要求，本实用新型的目的是提供一种采用ZnOx陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃及生产工艺；该玻璃的膜层结构依次为：玻璃、基层电介质层、吸收层、银层、保护层、中间电介质层、银层、保护层、上层电介质层；

其中：基层电介质层；为SnO₂的膜层，厚度为25nm～30nm；

吸收层为：为单层的陶瓷ZnOx层，或者是NiCr/ZnOx的复

合吸收层，膜层厚度为10～20nm；

银层：膜层厚度为12nm；

保护层：为NiCr膜层，厚度为2～3nm；

中间层电介质层：为SnO₂，膜层厚度为25～30nm；

上层电介质层为Si₃N₄，膜层厚为25～30nm。

本实用新型的优点是，由陶瓷ZnOx溅射的特殊薄膜，与其它膜层组合成特殊的膜系结构，应用在低辐射玻璃产品中，在保证原有低遮阳系数的前提下，可以有效的增加最终产品的吸收，能同时满足低遮阳系数和低反射率的特殊薄膜的低辐射镀膜玻璃，在保持原有的低遮阳系数的前提下，有效的降低了反射率。

附图说明

附图是本实用新各膜层结构示意图。

图中各膜层标号说明：

1-上层电介质层Si₃N₄；2-保护层NiCr；3-银层Ag；4-中间电介质层；5-保护层NiCr；6-银层Ag；7-复合吸收层NiCr/陶瓷ZnOx或吸收层陶瓷ZnOx/；8-基层电介质层SnO₂；9-玻璃基板。

具体实施方式

请参阅附图所示，本实用新型的采用氧化锌陶瓷靶磁控溅射的新型膜系结构玻璃，各膜层结构从玻璃基板9向外各层依次是：

8-基层电介质层SnO₂，7-复合吸收层NiCr/陶瓷ZnOx或吸收层陶瓷ZnOx/，6-银层Ag，5-保护层NiCr，4-中间电介质层，3-银层Ag，2-保护层NiCr，1上层电介质层Si₃N₄。

本实用新型采用ZnOx陶瓷靶磁控溅射工艺，制成各膜层结构，制成后的玻璃，其光学性能如下：

玻璃可见光透过率T＝41％

可见光玻璃面反射率＝12％

可见光玻璃面色坐标a^*值＝-1.5

            色坐标b^*值＝-1.7

可见光透射色坐标a^*值＝-3