[发明专利]掩模装置、其制造方法以及制造有机发光显示装置的方法有效

专利信息
申请号: 200710301381.7 申请日: 2007-12-25
公开(公告)号: CN101210307A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 金义圭;金泰亨;韩旭 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32;G03F7/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 代理人: 陆弋;朱登河
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种掩模装置,一种具有更高可靠性的掩模装置制造方法,一种通过形成平行于轧制方向的条形孔来制造大尺寸分掩模装置的方法,和一种制造有机发光显示装置(OLED)的方法。掩模装置包括:形成于掩模上的至少一个掩模对准标记;形成于掩模上并阻隔沉积材料的阻隔区域;和形成于掩模上的孔区域,沉积材料通过所述孔区域,其中至少一个掩模对准标记形成在孔区域之外,孔区域具有条形图样,而且,掩模基底的轧制方向平行于条形图样的纵向。
搜索关键词: 装置 制造 方法 以及 有机 发光 显示装置
【主权项】:
1.一种掩模装置,包括:形成于掩模上的至少一个掩模对准标记;形成于所述掩模上并阻隔沉积材料的阻隔区域;和形成于所述掩模上的孔区域,沉积材料由所述孔区域通过,其中,所述至少一个掩模对准标记形成于所述孔区域之外,所述孔区域具有条形图样,所述掩模基底的轧制方向平行于所述条形图样的纵向。
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