[发明专利]混合物靶以及防止带电膜的制造方法无效
| 申请号： | 200710199465.4 | 申请日： | 2005-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101220459A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 佐藤亨;清水康志;大栗宣明 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C09K3/16;C23C14/00;H05F1/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种混合物靶以及防止带电膜的制造方法，在图像显示装置等的内置电子发生装置的电子源的气密容器内设置的防止带电膜中，通过形成将粒径为0.5－10nm的多个导体粒子分散在含有氮化物介质中的结构，从而提高电阻值的控制性、稳定性和再现性、以及电阻温度特性。 | ||
| 搜索关键词： | 混合物 以及 防止 带电 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种铝和铂的混合物靶，其特征在于，所述混合物靶用于以溅射法来形成含有铝和铂的防止带电膜且包含不低于95重量％的铝和铂。
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