[发明专利]流体压力缸有效
| 申请号： | 200710193982.0 | 申请日： | 2007-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101191509A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 碇彻哉 | 申请（专利权）人： | SMC株式会社 |
| 主分类号： | F15B15/22 | 分类号： | F15B15/22 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张兆东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 第一和第二垫圈(62、64)分别通过配合槽(54a、54b)布置在构成流体压力缸(10)部件的活塞(18)的两端面(18a、18b)上。第一和第二垫圈(62、64)以基本中空的圆柱形状经压力加工由金属材料形成，其中垫圈(62、64)实现了缓冲作用，由于垫圈(62、64)与活塞(18)一同沿轴向移动且接收并容纳在气缸盖罩(14)的凹槽(24)和杆盖(16)的杆孔(34)内，活塞(18)的移动速度得以降低。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 压力 | ||
【主权项】：
1.一种流体压力缸(10)，包括：缸体(12)，其内具有由一对覆盖元件(14、16)封闭的缸内腔(20)；活塞(18)，其安置在所述缸体(12)内且在所述缸内腔(20)内沿轴向可移动，以及分别安置在所述覆盖元件(14、16)内的端口(28、44)，加压流体通过该端口供给和排放，所述流体压力缸(10)包括：中空圆柱圈体(62、64)，其沿所述活塞(18)的轴向安装在所述活塞(18)的端部且与所述活塞(18)一同可移动；容纳孔(24、40)，其形成在所述覆盖元件(14、16)中的至少一个中，用以在所述活塞(18)移动之时在其内接收和容纳所述圈体(62、64)；其中，所述圈体(62、64)由金属材料经压力加工而形成。
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