[发明专利]铁电存储装置及电子设备无效
申请号: | 200710187566.X | 申请日: | 2007-12-03 |
公开(公告)号: | CN101197186A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 小出泰纪 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G11C11/22 | 分类号: | G11C11/22 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;尚志峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种铁电存储装置及电子设备,其可以提高铁电存储装置的读出容限,而且,可以提高铁电存储装置的读出特性。其中,该铁电存储装置包括:第一p沟道型MISFET(P1-L),连接在第一节点(Vmn-L)和第三节点(Vc-L)之间,其栅极连接于第二节点(Vmn-R);第二p沟道型MISFET(P1-R),连接在上述第二节点和第四节点(Vc-R)之间,其栅极连接于上述第一节点;第一电荷传送MISFET(T2-L),连接在第一位线(BL-L)和第一节点(Vmn-L)之间;第二电荷传送MISFET(T2-R),连接在第二位线(BL-R)和第二节点(Vmn-R)之间;第一电容(C5-L),连接于上述第一节点;以及第二电容(C5-R),连接于上述第二节点。 | ||
搜索关键词: | 存储 装置 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种铁电存储装置,包括:第一电荷传送MISFET,连接在第一位线和第一节点之间;第二电荷传送MISFET,连接在第二位线和第二节点之间;第一电容,连接于所述第一节点;第二电容,连接于所述第二节点;第一p沟道型MISFET,连接在所述第一电荷传送MISFET和所述第一节点之间,所述第一p沟道型MISFET的栅极连接于所述第二节点;以及第二p沟道型MISFET,连接在所述第二电荷传送MISFET和所述第二节点之间,所述第二p沟道型MISFET的栅极连接于所述第一节点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710187566.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:红景天咀嚼片及其制备方法和用途
- 下一篇:半导体器件及其制造方法