[发明专利]垂直磁记录介质和磁记录装置无效

专利信息
申请号: 200710186901.4 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101159140A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 岩崎富生;细江让 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G11B5/73 分类号: G11B5/73
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的第一个课题是提供信赖度高的垂直磁记录介质。本发明的第二个课题是提供功能良好的垂直磁记录介质。另外,本发明的第三个课题是提供信赖度高的磁记录装置。本发明的第四个课题是提供功能良好的磁记录装置。在具备基板、在上述基板的一主面侧形成的软磁性基底膜、与上述软磁性基底膜接触形成的非磁性膜、与上述非磁性膜接触形成的中间膜、与上述中间膜接触形成的垂直记录层的垂直磁记录介质中,上述中间膜含有使表面平坦性提高的添加元素。
搜索关键词: 垂直 记录 介质 装置
【主权项】:
1.一种垂直磁记录介质,具备:基板、在上述基板的一主面侧形成的第一软磁性基底膜、在上述第一软磁性基底膜上形成的第一非磁性膜、在上述第一非磁性膜上形成的第二软磁性基底膜、在上述第二软磁性基底膜上形成的第二非磁性膜、在上述第二非磁性膜上形成的中间膜、以及在上述中间膜上形成的垂直记录层,其特征在于:上述中间膜是以Ru为主要构成元素、以Ti为添加元素的材料,或者是以Cu为主要构成元素、以Al为添加元素的材料。
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