[发明专利]具有双折射图案的物品的制造方法无效
| 申请号： | 200710186700.4 | 申请日： | 2007-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101187713A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 网盛一郎;兼岩秀树;森岛慎一;吉野晴彦;富田秀敏 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G03F7/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及依次至少包含下述工序[1]～[3]的具有高析像清晰度且耐热性优异的双折射图案的物品的简便制造方法：[1]准备含有含高分子的光学各向异性层的双折射图案制作材料，该光学各向异性层在高于20℃的温度范围内具有面内延迟为20℃时的延迟的30％以下的延迟消失温度，且该延迟消失温度因曝光而上升；[2]对该双折射图案制作材料进行图案曝光的工序；和[3]将工序[2]后得到的层叠体在50℃～400℃加热的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 双折射 图案 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.具有双折射图案的物品的制造方法，其依次至少包含下述的[1]～[3]的工序：[1]准备含有含高分子的光学各向异性层的双折射图案制作材料，该光学各向异性层在高于20℃的温度范围内具有面内延迟为20℃时的延迟的30％以下的延迟消失温度，且该延迟消失温度因曝光而上升；[2]对所述双折射图案制作材料进行图案曝光的工序；[3]将工序[2]后得到的层叠体在50℃～400℃加热的工序。
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