[发明专利]校正值决定方法、曝光装置和图像形成装置无效
| 申请号： | 200710186028.9 | 申请日： | 2007-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN101178557A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 新井义雄;井上望 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/01 | 分类号： | G03G15/01;G03G15/04;H04N1/04;G06K9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种校正值确定方法，其中经过第一过程和第二过程，决定用于校正在X方向排列的各发光元件E的出射光的能量的校正值。在第一过程中，从由来自各发光元件E的出射光形成的多个光斑区域S中，确定以相对于X方向倾斜的P方向作为长轴的椭圆形的光斑区域S。在第二过程中，以第一过程中确定的光斑区域S中P方向的尺寸WP接近目标值W0的方式决定校正值A。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 决定 方法 曝光 装置 图像 形成 | ||
【主权项】：
1.一种校正值确定方法，用于设定校正值，所述校正值用于针对在第一方向上排列而对被曝光面进行曝光的多个发光元件的每个校正出射光的能量，包括：第1过程，其中对借助于来自所述多个发光元件的出射光而在所述被曝光面上形成的多个光斑区域中、以相对于所述第1方向而倾斜的方向为长轴的椭圆形的光斑区域进行指定；第2过程，其中以由所述第1过程所指定的光斑区域中的所述长轴的方向的尺寸接近于目标值的方式，确定校正值。
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