[发明专利]一种工艺控制方法和装置有效
| 申请号： | 200710178095.6 | 申请日： | 2007-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN101446804A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 张善贵 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B13/02 | 分类号： | G05B13/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种工艺控制方法，包括：步骤a、接收目标输出变量；步骤b、通过预置的工艺预测模型和反馈控制模型计算目标过程变量；所述工艺预测模型用于描述过程变量和输出变量之间的函数关系；所述反馈控制模型的目标函数为：求解与预设基准值距离最小的目标过程变量；所述反馈控制模型的约束条件为：目标输出变量和目标过程变量符合工艺预测模型；步骤c、向实际工艺设备输入所述目标过程变量，获得实际输出变量；步骤d、判断所述目标输出变量和所述实际输出变量之间的偏差；如果不满足预设要求，则调整所述预置的工艺预测模型，返回步骤b；如果满足预设要求，则结束。本发明对于减少计算量和提高控制精度有着比较明显的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种工艺控制方法，其特征在于，包括：步骤a、接收目标输出变量；步骤b、通过预置的工艺预测模型和反馈控制模型计算目标过程变量；所述工艺预测模型用于描述过程变量和输出变量之间的函数关系；所述反馈控制模型的目标函数为：求解与预设基准值距离最小的目标过程变量；所述反馈控制模型的约束条件为：目标输出变量和目标过程变量符合工艺预测模型；步骤c、向实际工艺设备输入所述目标过程变量，获得实际输出变量；步骤d、判断所述目标输出变量和所述实际输出变量之间的偏差；如果不满足预设要求，则调整所述预置的工艺预测模型，返回步骤b；如果满足预设要求，则结束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710178095.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种机房安防监控管理系统
- 下一篇：制作光掩模版的方法及图案化的方法
