[发明专利]一种工艺控制方法和装置

权利要求书

1.一种工艺控制方法，其特征在于，包括：

步骤a、接收目标输出变量；

步骤b、通过预置的工艺预测模型和反馈控制模型计算目标过程变量；所述工艺预测模型用于描述过程变量和输出变量之间的函数关系；所述反馈控制模型的目标函数为：求解与预设基准值距离最小的目标过程变量；目标过程变量与预设基准值之间的距离包括：相对距离、绝对距离或者加权距离；所述反馈控制模型的约束条件为：目标输出变量和目标过程变量符合工艺预测模型；

步骤c、向实际工艺设备输入所述目标过程变量，获得实际输出变量；

步骤d、判断所述目标输出变量和所述实际输出变量之间的偏差；如果不满足预设要求，则调整所述预置的工艺预测模型，返回步骤b；如果满足预设要求，则结束。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调整所述预置的工艺预测模型的方式包括调整增益系数和/或截距。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述工艺预测模型通过数据样本分析获得。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当存在多组符合预设要求的目标过程变量时，依据偏差值和/或单个目标过程变量的调整幅度从中筛选出最优的一组目标过程变量。

5.一种工艺控制装置，其特征在于，包括：

工艺目标接收模块，用于接收目标输出变量；

反馈处理模块，用于通过预置的工艺预测模型和反馈控制模型计算目标过程变量；所述工艺预测模型用于描述过程变量和输出变量之间的函数关系；所述反馈控制模型的目标函数为：求解与预设基准值距离最小的目标过程变量；目标过程变量与预设基准值之间的距离包括：相对距离、绝对距离或者加权距离；所述反馈控制模型的约束条件为：目标输出变量和目标过程变量符合工艺预测模型；

设备接口模块，用于向实际工艺设备输入所述目标过程变量，并检测获得实际输出变量；

判断反馈模块，用于判断所述目标输出变量和所述实际输出变量之间的偏差；如果不满足预设要求，则调整所述预置的工艺预测模型，返回反馈处理模块；如果满足预设要求，则结束。

6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，所述调整所述预置的工艺预测模型的方式包括调整增益系数和/或截距。

7.如权利要求5所述的装置，其特征在于，所述工艺预测模型通过数据样本分析获得。

8.如权利要求5所述的装置，其特征在于，还包括：

筛选模块，用于当存在多组符合预设要求的目标过程变量时，依据偏差值和/或单个目标过程变量的调整幅度从中筛选出最优的一组目标过程变量。