[发明专利]一种高压MOS器件无效
申请号: | 200710173568.3 | 申请日: | 2007-12-28 |
公开(公告)号: | CN101217160A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 王俊 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种高压MOS器件,其至少包括栅极、源极及漂移区,其中,该器件还包括至少两个场板,所述场板相互间隔一段距离分布在漂移区的上表面,与栅极最近的场板与源极相连接,另一个场板与栅极相连。两个场板均由多晶硅层构成,厚度与栅极的多晶硅层厚度一样。两个场板的长度可以相同或不同。场板的长度取决于漂移区的掺杂程度,漂移区掺杂越低,场板越长,场板的长度范围不超过漂移区长度的三分之一。场板长度介于漂移区长度的六分之一到四分之一之间。与现有技术相比,本发明的器件提高了击穿电压,降低了导通电阻,器件速度不受影响,安全工作区较大。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 mos 器件 | ||
【主权项】:
1.一种高压MOS器件,其至少包括栅极、源极及漂移区,其特征在于:该器件还包括至少两个场板,所述场板相互间隔一段距离分布在漂移区的上表面,与栅极最近的场板与源极相连接,另一个场板与栅极相连。
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