[发明专利]抗蚀覆盖膜形成材料、抗蚀图案形成方法、电子器件及其制造方法

摘要

本发明提供了一种材料，其包括：由通式(1)表示的具有至少一个碱溶性基团的含硅聚合物；和可以溶解所述含硅聚合物的有机溶剂，(SiO_4/2)_a(R¹_tSiO_(4－t)/2)_b(O_1/2R²)_c通式(1)其中R¹代表单价有机基团，氢原子和羟基中的至少一个，R²代表单价有机基团和氢原子中的至少一个(其中R¹和R²可以各自出现两次或以上，且R¹和R²中至少一个含有碱溶性基团)，“t”代表1～3的整数，“a”、“b”和“c”代表其单元的相对比例(其中a≥0、b≥0、c≥0，且“a”、“b”和“c”不同时为0)，且(R¹_tSiO_(4－t)/2)_b可以出现两次或以上。

主权项

1.一种材料，其包括：由通式(1)表示的具有至少一个碱溶性基团的含硅聚合物，和可以溶解所述含硅聚合物的有机溶剂，(SiO4/2)a(R1tSiO(4-t)/2)b(O1/2R2)c 通式(1)其中R1代表单价有机基团、氢原子和羟基中的至少一个，R2代表单价有机基团和氢原子中的至少一个(其中R1和R2可以各自出现两次或以上，且R1和R2中至少一个含有碱溶性基团)，“t”代表1～3的整数，“a”、“b”和“c”代表其单元的相对比例(其中a≥0、b≥0、c≥0，且“a”、“b”和“c”不同时为0)，且(R1 tSiO(4-t)/2)b可以出现两次或以上。