[发明专利]用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫及其制备方法有效
| 申请号： | 200710132281.6 | 申请日： | 2007-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101130238A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 左敦稳;孙玉利;卢文壮;李军;朱永伟 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24D3/00;B24D17/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 瞿网兰 |
| 地址： | 210016*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明针对传统抛光垫在抛光加工过程中效率低、成本高、均匀性和可靠性差、工艺控制能力不强以及多次装夹工件致使工件的加工定位基准发生改变，从而影响最终的加工精度和效率等缺点，提出了一种用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫及其制备方法，以适应目前抛光精加工的需求。本发明利用液体作为粘结剂，通过分层冷冻分别将去离子水、纳米磨料及微米磨料粘结形成抛光垫，可用于抛光加工各种薄形工件，尤其适于加工热敏性材料、软材料、晶体材料等。本发明具有制造简单、加工成本低、加工效率和加工精度高、工艺控制能力强、绿色环保等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 分层 冷冻 磨料 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫，其特征是自底层往上共有四层：第一层为去离子水层，第二层为纳米磨料层，第三层也为去离子水层，第四层为微米磨料层，其中微米磨料层占抛光垫总重量的30％～40％，纳米磨料层占总重量的20％～30％，余量为去离子水层，且第一层去离子水层占余量去离子水层总重量的20～40％。
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