[发明专利]具有灰度滤波器的波前传感器及包括该传感器的光刻设备无效
| 申请号： | 200710111953.5 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101105639A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | A·J·范德西斯;H·V·科克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于测量辐射束的相位分布和/或投射系统的光瞳分布的辐射分布测量系统包括透明承板、配置在透明承板第一侧的光栅和/或针孔、以及在透明承板对侧的摄像机。测量系统还包括在透明承板和摄像机之间的辐射滤波器，其透射率在滤波器中心处最低并向滤波器外侧逐渐并同心增大。通过放置具有其特定透射率的滤波器，在波前传感器10上的强度差异(即强度梯度)得到补偿。入射到摄像机上的光强度就更均匀，得到改进的测量系统性能。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 灰度 滤波器 传感器 包括 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种辐射分布测量系统，配置成测量辐射束的相位分布和/或投射系统的光瞳分布，所述测量系统包括：透明承板；光栅和/或针孔，配置在所述透明承板的第一侧；摄像机，配置在与所述透明承板的第一侧相对的第二侧；以及辐射滤波器，配置在所述透明承板和所述摄像机之间，所述辐射滤波器具有的透射率在所述滤波器中心处最低，并向所述滤波器外侧逐渐并同心增大。
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