[发明专利]用于化学机械抛光的分散体无效
| 申请号： | 200710106544.6 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101235254A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | (发明人请求不公开姓名) | 申请（专利权）人： | 德古萨有限责任公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 德国杜塞*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种水分散体，其pH值在3和7之间，包含1－35重量％磨料，所述磨料是比表面积为50－200m2/g且平均聚集体直径小于200nm的热解氧化铝。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 散体 | ||
【主权项】：
1. 一种水分散体，其pH值在3和7之间且包含1-35重量％的磨料，所述磨料是比表面积为50-200m2/g且平均聚集体直径小于200nm的热解氧化铝。
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