[发明专利]使用两件式盖子保护模版的系统和方法有效
| 申请号： | 200710102349.6 | 申请日： | 2003-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN101105637A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托;埃里克·R·卢普斯特拉;安德鲁·马萨尔;杜安·P·基什;阿卜杜拉·阿里汗;伍德罗·J·奥尔松;乔纳森·H·费罗斯 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00;G03F1/14;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于保护掩模不被空载的颗粒污染的系统和方法。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版。该两件式盖子包括用于保护颗粒不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或者盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 两件式 盖子 保护 模版 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：盖子，该盖子保护模版，该盖子包括：框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳该模版的至少一部分，该框架包括对准装置；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，该可复位面板包括与该框架上的对准装置相对应的对准装置，其中，该框架在曝光过程中保持联接至该模版。
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