[发明专利]通过掩膜曝光生成三维对象的设备和方法有效
| 申请号： | 200710101018.0 | 申请日： | 2007-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101063812A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 亨德里克·约翰;沃尔科尔·希勒恩;阿里·埃尔－斯博兰尼 | 申请（专利权）人： | 想象科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;B29C67/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 德国格*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明描述了通过经包含预定个分立成像元件(像素)的成像单元输入的能量，在电磁辐射的作用下固化可固化材料，生成三维对象的设备和方法。通过多个相继光栅掩膜(位图；例如，位图1和位图2和可能附加位图)进行曝光，控制与三维对象的特定横断区有关的能量输入。成像单元可适当控制成至少可以生成两个掩膜，包括覆盖横断区的第一总掩膜(位图1；用白光曝光的专用于像素区域元件)；和总掩膜内的局部掩膜(位图2；其中，用白光专用于像素地只曝光一部分区域元件)。可以形成体素矩阵。可以在可固化材料中具体和精确地影响每个体素(体像素)的硬化深度。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 曝光 生成 三维 对象 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生成三维对象的设备，包含：用于能量输入能够在电磁辐射的作用下固化可固化材料、和包含预定个分立成像元件(像素)的成像单元；计算机单元、IC和/或软件实现；其中，计算机单元、IC和/或软件实现分别具有针对要生成的三维对象的横断区，通过多个相继光栅掩膜(位图)进行曝光控制能量输入的能力。
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