[发明专利]纹理构造无效
| 申请号： | 200710096316.5 | 申请日： | 2007-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101077678A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 清水俊光 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 陈伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种提高质感，提高针对摩擦的耐久性(耐刮痕性)的纹理构造。纹理构造(11)是由在树脂制板材的面上形成的凸部(13)和凹部(14)构成，凸部(13)的表面粗糙度和凹部(14)的表面粗糙度不同。凹部(14)的表面粗糙度比凸部(13)的表面粗糙度粗。凸部(13)的面被形成为镜面。因为若凸部(13)以光泽(Gb)对光进行反射，凹部(14)以光泽(Gh)对光进行反射，则成为光泽(Gb)与光泽(Gh)的大致中间的光泽(G)，所以能够感到质感提高。因为摩擦后的凸部(25)的面的光泽为稍稍增大的程度，所以对凸部(13)的反射光的大小(Gb)不会产生大的差，能够提高针对摩擦的耐久性(耐刮痕性)。 | ||
| 搜索关键词： | 纹理 构造 | ||
【主权项】：
1.一种纹理构造，是由在树脂制板材或厚度薄的片材的面上形成的凸部和凹部构成，其特征在于，上述凸部的表面粗糙度和上述凹部的表面粗糙度不同。
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