[发明专利]制造集成电路的方法无效
| 申请号： | 200710091630.4 | 申请日： | 2007-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101055426A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 肯尼斯·J.·古德瑙;格利高里·J.·曼恩;詹森·M.·诺曼;赛拉弗诺·布伊蒂 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;H01L21/82;H01L27/02;G06F17/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建峰 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种制造方法的实施例，该方法创建并保持用于对具有符合所创建的性能和定时要求的各种结构的不同电路块进行构图的预先制作和预先限定掩模的库。本方法的实施例还使用对包括至少一个从库中选择的掩模的多个掩模的分步曝光，以在硅晶片上构图芯片设计，其中芯片设计由两个或更多互联的电路块构成。因此，对于给定的集成电路设计，可以从库中选择预先制作/预先限定的掩模，以为该设计的一个、一些或所有电路块进行构图。可选地，还可以特别地制作和限定另外的掩模以对设计中的其它电路块(例如，特殊用途逻辑)进行构图。可通过一般的或定制的接口电气连接以此方式所构图的电路块，来完成集成电路设计。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 集成电路 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造方法，包括：形成多个掩模，其中所述多个掩模包含用于相应电路块的构图；分别就性能和定时限定每个所述掩模；和限定后将所述掩模保存在库中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710091630.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：旋转控制装置以及建设机械
- 下一篇：用来固定在瓶颈中的流体分配器和相关的瓶子
