[发明专利]测量、曝光装置及方法、调整方法以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200710091463.3 | 申请日： | 2007-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101046639A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 盐出吉宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量方法，用于测量光学系统的开口光圈的位置，其特征在于具有：在和上述光学系统的光瞳位置光学共轭的位置上测定通过了上述开口光圈的光的光强度分布的步骤；以及根据在上述测定步骤中测定的上述光强度分布的衍射条纹，决定上述光学系统的开口光圈的位置的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 曝光 装置 方法 调整 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1、一种测量方法，用于测量光学系统的开口光圈的位置，其特征在于，具有：在和上述光学系统的光瞳位置光学共轭的位置上测定通过了上述开口光圈的光的光强度分布的步骤；以及根据在上述测定步骤中测定的上述光强度分布的衍射条纹，决定上述光学系统的开口光圈的位置的步骤。
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