[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
申请号: | 200710086891.7 | 申请日: | 2007-04-02 |
公开(公告)号: | CN101063824A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 宫下正弘;富樫工 | 申请(专利权)人: | 日本精工株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨本良;文琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了能有效地向2个基板装载台供给基板并能缩短制造曝光转印基板的生产节拍时间的曝光装置及曝光方法。曝光装置PE包括掩模装载台(10)、可相对于掩模装载台(10)相对移动的2个基板装载台(11、12)、预对准单元(14)、相对于预对准单元(14)而对置地配置的2个基板装载机(15、16)。在使其中一个基板装载台(11)从待机位置WP1移动到曝光位置EP并在基板W上曝光转印掩模图案期间,使另一基板装载台(12)从曝光位置EP移动到待机位置WP2,之后排出已曝光转印的基板W,由基板装载机(16)将已预对准的基板W搬运到另一基板装载台(12),并且由基板装载机将基板W搬运到预对准单元(14)。 | ||
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【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:用于保持掩模的掩模装载台;可在位于该掩模装载台下方的曝光位置和第1待机位置之间移动的第1基板装载台;可在所述曝光位置和第2待机位置之间移动的第2基板装载台;照射装置,通过所述掩模向保持在移动到所述曝光位置的所述第1和第2基板装载台上的基板照射图案曝光用光;预对准单元,预先对准供给到所述第1和第2基板装载台上的所述基板的位置;第1基板装载机,配置在所述预对准单元的侧方,将所述基板搬运到所述预对准单元,并且将已利用所述预对准单元预先对准的所述基板搬运到所述第1基板装载台;以及第2基板装载机,相对于所述预对准单元而与所述第1基板装载机对置地配置,将所述基板搬运到所述预对准单元,并将已利用所述预对准单元预先对准的所述基板搬运到所述第2基板装载台。
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