[发明专利]曝光机与曝光工艺无效
| 申请号： | 200710086883.2 | 申请日： | 2007-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN101271278A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 苏洹漳 | 申请（专利权）人： | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明一种曝光工艺，用以将一光罩上的图案转移至一基板上。曝光工艺包括下列步骤。首先，利用一光学扫描装置对光罩进行一检测工艺，以确认光罩是否被污染。接着，确认光罩没有被污染后，利用一光线产生器进行曝光，以将光罩上的图案转移至基板上。此外，一种具有光学扫描装置的曝光机亦被提出。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 工艺 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光机，用以将一光罩上的图案转移至一基板上，该曝光机包括一光线产生器，以发出一经过该光罩而投射至该基板上的光线，其特征在于：该曝光机包括一光学扫描装置，该光学扫描装置适于曝光前扫描该光罩，以确认该光罩是否被污染。
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