[发明专利]曝光机与曝光工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光机与曝光工艺，且特别是有关于一种具有一光学扫描装置的曝光机与先利用光学扫描装置检测光罩的曝光工艺。

背景技术

随着科技的进步，微电子工业的制造技术一日千里，其中微影工艺(lithography process)扮演着十分重要的角色。微影工艺包括形成光阻层、曝光(exposure)与显影(development)等步骤。微影工艺简单的说就是将设计好的线路图案，完整且精确地复制到基板(例如为晶圆或具有铜箔层的电路板)上。设计好的图案会制作成光罩(photo mask)，再应用光学成像的原理，将图案投影至基板上。因此，光罩的保护及清洁直接控制着微影工艺的优与劣，而清洁的后的光罩则存放于光罩盒中，以避免空气中粉尘或微粒的污染。

曝光的技术虽然很复杂，但其原理却很简单。在基板上覆盖一层具有感光材料(photo-sensitive material)的光阻层(photoresist layer)之后，光源发出的平行光经过光罩而照射在此光阻层上。因此，光罩上的图案便完整地转移到光阻层上。这个将平行光经过光罩而使光罩上的图案转移到光阻层上的步骤即是曝光(exposure)。

传统上欲量产具有图案化线路的基板之前，经由上述微影与后续图案化工艺(例如蚀刻工艺)以形成图案化线路(patterned circuit)的首件基板会先送至自动化光学检测(automatic optical inspection，AOI)设备进行检测。当首件基板的图案化线路经由自动化光学检测后是符合设计要求而无任何缺陷时，生产线才会进行后续量产的步骤。当首件基板的图案化线路经由自动化光学检测后是不符合设计要求而有缺陷时，通常是由于曝光工艺所使用的光罩被异物污染所导致，所以光罩必须进行清洁的步骤以维持曝光工艺的良率。然而，上述自动化光学检测的过程通常需时较久，以致于影响后续量产基板或清洗光罩的时程。

发明内容

本发明的目的是提供一种曝光机，其光学扫描装置可于曝光前扫描光罩，以确认光罩是否被污染。

本发明另一目的是提供一种曝光工艺，在进行曝光前先利用光学扫描装置对光罩进行检测，以确认光罩是否被污染。

本发明提出一种曝光机，用以将一光罩上的图案转移至一基板上。曝光机包括一光线产生器，以发出一经过光罩而投射至基板上的光线。曝光机的特征在于曝光机包括一光学扫描装置，且光学扫描装置适于曝光前扫描光罩，以确认光罩是否被污染。

在本发明的一实施例中，上述光学扫描装置包括一电荷耦合组件。

本发明提出一种曝光工艺，用以将一光罩上的图案转移至一基板上。曝光工艺包括下列步骤。首先，利用一光学扫描装置对光罩进行一检测工艺，以确认光罩是否被污染。接着，确认光罩没有被污染后，利用一光线产生器进行曝光，以将光罩上的图案转移至基板上。

在本发明的一实施例中，上述光学扫描装置包括一电荷耦合组件。

基于上述，本发明的曝光机与曝光工艺对于进行量产具有图案化线路的基板的时程将可有效地缩短。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

附图说明

图1绘示本发明一实施例的一种曝光机的示意图；

图2A至图2B绘示利用图1的曝光机进行曝光工艺的示意图。

【主要组件符号说明】

22：光罩

22a：基底

22b：金属层

24：基板

24a：光阻层

200：曝光机

210：光线产生器

220：光学扫描装置

L：光线

具体实施方式

请参考图1，其绘示本发明一实施例的一种曝光机的示意图。本实施例的曝光机200用以将一光罩22上的图案转移至一基板24(例如为晶圆或具有铜箔层的电路板)上。曝光机200包括一光线产生器210与一光学扫描装置220。光线产生器210适于发出一经过光罩22而投射至基板24上的光线L。光线L例如为紫外光。