[发明专利]利用模板表面润湿制备富勒烯类一维纳米结构阵列的方法无效
| 申请号： | 200710070402.9 | 申请日： | 2007-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101139091A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 陈红征;白茹;李智卓;欧阳密;施敏敏;吴刚;汪茫 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;B82B3/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开的利用模板表面润湿制备富勒烯类纳米结构阵列的方法，包括以下步骤：将富勒烯加入到有机溶剂中，制备富勒烯有机溶液；用滴管将富勒烯有机溶液均匀滴加到孔径均一、排列有序的多孔模板表面，挥发去除有机溶剂；将含有富勒烯一维纳米结构的模板用环氧黏在玻璃基板上，然后浸入强碱溶液中，去除模板，得到富勒烯一维纳米结构阵列。本发明具有操作简单，能耗低，可调控范围大等优点。制得的定向生长的富勒烯纳米线阵列非常有利于电子的定向传输，并具有较好的机械稳定性和良好的光电性能，这种纳米线阵列在光学、电学及生物学，尤其在光电转换方面有着极其重要的应用价值。有望在太阳能电池、光导器件、场效应晶体管等领域得到应用。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 模板 表面 润湿 制备 富勒烯类一维 纳米 结构 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1.利用模板表面润湿制备富勒烯类纳米结构阵列的方法，包括以下步骤：1)将富勒烯加入到能够溶解富勒烯的有机溶剂中，在超声条件下充分溶解，配制质量浓度为0.01～10mg/ml的富勒烯有机溶液；2)用滴管将步骤1)的富勒烯有机溶液均匀滴加到孔径均一、排列有序的多孔模板表面，静置，挥发去除有机溶剂，得到模板限制生长的富勒烯一维纳米结构；3)将含有富勒烯一维纳米结构的模板用环氧黏在玻璃基板上，然后浸入质量浓度为1-10％的强碱溶液中，去除模板，得到富勒烯一维纳米结构阵列。
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