[发明专利]浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置

摘要

本发明公开了一种浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置。是在浸没光刻系统中的投影透镜组和待曝光硅片之间装有液体供给及回收的密封控制装置。所述的液体供给及回收的密封控制装置，由浸没单元外接管路连接体、浸没单元腔体和浸没单元工作面组成。采用双重气帘密封和双重多孔介质回收方式，密封气体注入和气液混合回收管路都具有缓冲和均压结构，在缝隙流场边界得到流动稳定压差均匀的气流帘，阻止了步进和扫描行程中液体泄漏，同时在液体回收部分，增大的有效工作面积减少了硅片表面的滞留液体。同时有较强的抗气源供给脉动能力。密封气帘厚度小，气源输入功率小，效率高，硅片总体背压减小。

主权项

1.浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置，是在浸没光刻系统中的投影透镜组(1)和待曝光硅片(3)之间装有液体供给及回收的密封控制装置，其特征在于：所述的液体供给及回收的密封控制装置(2)，由浸没单元外接管路连接体(2C)、浸没单元腔体(2B)和浸没单元工作面(2A)组成；其中：1)浸没单元外接管路连接体(2C)：开有提供注气压力缓冲腔(5A、5B)，气液混合物回收缓冲腔(6A、6B)，注液腔(9)对外连接通道管路；2)浸没单元腔体(2B)：此部分由五个由中心向外依次嵌套的各自连续的环状圆柱腔体，依次是注液腔(9)、气液混合物回收缓冲腔(6B)、注气压力缓冲腔(5B)、气液混合物回收缓冲腔(6A)和注气压力缓冲腔(5A)，五个分别垂直向上通过浸没单元外接管路连接体(2C)的对应接口与外界供水供气系统连接；3)浸没单元工作面(2A)：此部分提供浸没单元腔体(2B)中五个缓冲腔体与硅片(3)上表面工作空间的连接通道：第一，注气孔阵列(8A)沿圆周方向排列，孔的方向垂直于浸没单元工作面(2A)，注气孔阵列(8A)向上与注气压力缓冲腔(5A)相通；第二，注气孔阵列(8B)沿圆周方向排列，孔的方向垂直于浸没单元工作面(2A)，注气孔阵列(8B)向上与注气压力缓冲腔(5B)相通；第三，多孔介质(4A)所在的环型连续槽，向上与气液混合物回收缓冲腔(6A)相通；第四，多孔介质(4B)所在的环型连续槽，向上与气液混合物回收缓冲腔(6B)相通。