[发明专利]射频磁控溅射法制备超硬TiB2/TiAlN纳米多层膜无效
| 申请号： | 200710060541.3 | 申请日： | 2007-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101214744A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李德军;刘思鹏;邓湘云 | 申请（专利权）人： | 天津师范大学 |
| 主分类号： | B32B7/02 | 分类号： | B32B7/02;B32B33/00;B32B9/00;B32B15/04;C23C14/34;C23C14/54;C23C14/02 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300387天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及射频磁控溅射法制备超硬TiB2/TiAlN纳米多层膜，利用射频磁控溅射技术，采用射频电源激发等离子体来溅射TiB2和TiAl陶瓷靶，在单面抛光的Si(100)基底上沉积TiB2和TiAlN的多层膜，采用机械泵和分子泵，将真空室内的气压抽至3.0×10－4Pa－1.0×10－4Pa，沉积TiB2时溅射气体选用纯Ar，用质量流量控制器控制其流量保持在4－60sccm，沉积TiAlN时溅射气体为Ar和N2，并改变氮气和氩气的比例从1∶1到1∶50，在整个沉积过程中总的工作气压为：沉积TiB2时气压在0.1－0.8Pa，沉积TiAlN时气压在0.2－1.0Pa，多层膜的周期为30－200层。新型超硬TiB2/TiAlN纳米多膜”具有高硬度、较低内应力，高膜基结合力的优良综合特性。新型超硬TiB2/TiAlN纳米多层膜在刀刃具、模具表面强化薄膜中用重要的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 磁控溅射 法制 备超硬 tib sub tialn 纳米 多层 | ||
【主权项】：
1.一种TiB2/TiAlN纳米多层膜，其特征是在40-60纳米厚的纯Ti层上交替存在着TiB2和TiAlN层，每周期层厚为5-30纳米，多层膜的周期为30-200层，总层厚为800～1000纳米。
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