[发明专利]持续长效、不需双氧水的Fenton试剂的制备方法有效
申请号: | 200710053026.2 | 申请日: | 2007-08-24 |
公开(公告)号: | CN101139130A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 李家麟;余颖 | 申请(专利权)人: | 华中师范大学 |
主分类号: | C02F1/72 | 分类号: | C02F1/72;C02F1/30 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人: | 张安国 |
地址: | 430079湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 一种持续长效、不需双氧水的Fenton试剂的制备方法。Fenton试剂是由过氧化氢和亚铁离子结合形成的、具有很强氧化能力的试剂,但过氧化氢的使用都将大大增加应用的成本。本发明利用半导体材料氧化亚铜在可见光照射下能产生大量过氧化氢,并利用这种光生H2O2与Fe2+形成Fenton试剂。在可见光照射下,氧化亚铜受激发产生电子、空穴,由于Cu2O的导带位置很负,其电子具有很强的还原能力,可将氧化亚铜表面吸附的氧气还原成过氧化氢,与Fe2+一起就形成了Fenton试剂。该Fenton试剂的优点是:作为光催化剂的氧化亚铜稳定、可连续使用较长时间,在实际使用过程中不需要使用过氧化氢;可见光的来源充分、价廉。因此,该可见光下的氧化亚铜Fenton试剂在实际应用中完全可取代传统的Fenton试剂。 | ||
搜索关键词: | 持续 长效 双氧水 fenton 试剂 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.持续长效的Fenton试剂的制备方法,其特征在于,该制备方法不加双氧水、采用可见光照射下的Cu2O-Fe2+-O2体系,利用可见光照射氧化亚铜或氧化亚铜复合物生成的过氧化氢与亚铁离子反应制备Fenton试剂,反应体系中加入空穴牺牲剂,加入量为0-100克/升,体系pH为3-10。
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