[发明专利]形成辅助通孔的OPC修正方法有效

专利信息
申请号: 200710047858.3 申请日: 2007-11-06
公开(公告)号: CN101430500A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 洪齐元 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 楼仙英
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,通过在两层金属线之间的孤立通孔附近一定范围内寻找其他通孔、金属线,在附近一定范围没有通孔、金属线的孤立通孔附近形成辅助通孔,然后将该辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值,再将该辅助通孔向原始通孔方向扩展与原始通孔相接,并与其下层金属线重叠,最后在改进的金属线和通孔布图上进行常规的OPC修正。
搜索关键词: 形成 辅助 opc 修正 方法
【主权项】:
1. 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,包括如下步骤:a)沿第二层金属线检查每一个通孔,在其附近一定距离内是否有第一层金属线或通孔,如果没有,则沿着第二金属线的方向在原通孔附近设置一个辅助通孔;b)所述的辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值;c)向原始通孔方向扩展,使其与原始通孔边缘相接触;d)将增加值及扩展值与第一层金属线叠加,即形成最终的第一层金属线的布图;e)在以上改进的金属线和通孔布图上进行后续的常规OPC修正;f)对第二层和第三层金属线之间及更多层的通孔重复上述过程。
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