[发明专利]形成辅助通孔的OPC修正方法有效
| 申请号: | 200710047858.3 | 申请日: | 2007-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN101430500A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
| 发明(设计)人: | 洪齐元 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 楼仙英 |
| 地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,通过在两层金属线之间的孤立通孔附近一定范围内寻找其他通孔、金属线,在附近一定范围没有通孔、金属线的孤立通孔附近形成辅助通孔,然后将该辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值,再将该辅助通孔向原始通孔方向扩展与原始通孔相接,并与其下层金属线重叠,最后在改进的金属线和通孔布图上进行常规的OPC修正。 | ||
| 搜索关键词: | 形成 辅助 opc 修正 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种形成辅助通孔的OPC修正方法,包括如下步骤:a)沿第二层金属线检查每一个通孔,在其附近一定距离内是否有第一层金属线或通孔,如果没有,则沿着第二金属线的方向在原通孔附近设置一个辅助通孔;b)所述的辅助通孔向四周扩展一个尺寸增加值;c)向原始通孔方向扩展,使其与原始通孔边缘相接触;d)将增加值及扩展值与第一层金属线叠加,即形成最终的第一层金属线的布图;e)在以上改进的金属线和通孔布图上进行后续的常规OPC修正;f)对第二层和第三层金属线之间及更多层的通孔重复上述过程。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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