[发明专利]一种金属铜的抛光液有效
| 申请号： | 200710047465.2 | 申请日： | 2007-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101418189A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;陈国栋;包建鑫 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种金属铜的抛光液，其特征在于含有：磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种：三氮唑，碳原子上带氨基和/或羧基的三唑类化合物，带羟基、氨基或磺酸基的有机膦酸，以及带氨基或羧基的吡啶环。本发明的抛光液具有的Cu的去除速率对下压力变化的敏感度较低。采用本发明的抛光液抛光后，铜表面光洁，表面形貌较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种金属铜的抛光液，其特征在于含有：磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种：三氮唑，碳原子上带氨基和/或羧基的三唑类化合物，带羟基、氨基或磺酸基的有机膦酸，以及带氨基或羧基的吡啶环。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710047465.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：IGBT桥路及驱动保护电路检测装置
- 下一篇：一种花生离体快速繁殖的方法
