[发明专利]一种可见光活性的碳掺杂纳米二氧化钛薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 200710042334.5 | 申请日： | 2007-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN101069840A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 崔晓莉;朱蕾;沈杰;杨锡良;章壮健 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;B01J21/18 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米二氧化钛光催化与光电化学技术领域，具体为一种可见光活性的碳掺杂二氧化钛薄膜的制备方法。该方法采用反应磁控溅射镀膜系统，其步骤包括制备碳钛镶嵌靶；将工作室抽至10－3Pa以下的真空，再依次通过适当比例的氧气和氩气，控制溅射电流为0.5～1A，溅射时间为0.5～3小时，即制得碳掺杂二氧化钛薄膜。本发明制备方法简单，制得薄膜具有可见光活性，可应用于太阳能光电转换和光催化分解水等方面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 活性 掺杂 纳米 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种可见光活性的碳掺杂纳米二氧化钛薄膜的制备方法，采用反应磁控溅射镀膜系统，具体步骤如下：以载玻片或导电玻璃为基片，采用碳钛镶嵌靶，将工作室抽至10-3pa以下的真空，再依次通入氧气和氩气，调节氧气和氩气的体积比为1∶2～1∶4，然后调节高真空阀，使工作室压强保持在2Pa的溅射压强，控制溅射电流为0.5～1A，溅射时间为0.5～3h。
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