[发明专利]铜及其合金的复合离子注入表面改性的方法无效
申请号: | 200710041967.4 | 申请日: | 2007-06-14 |
公开(公告)号: | CN101070592A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 蔡珣;安全长;沈耀;徐放 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C14/02;C23C14/54 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及的是一种材料技术领域的铜及其合金的复合离子注入表面改性的方法。首先对铜或者铜合金表面进行研磨,并抛光至1200#-1500#,再用去离子水和有机液对样品表面进行清洗,烘干后备用;采用复合离子注入工艺,将铜及其合金放入离子注入复合镀膜设备内,实现在铜及其合金表面同时注入非金属元素和金属元素。本发明高能离子以很高的速度注入铜及其合金的表面,使其表面产生很多的点缺陷和线缺陷,这些缺陷的产生使得材料表面得到强化,提高其硬度,改善其耐磨性能;还可显著地减少铜及其合金表面的氧吸附量或在其表面形成一层致密的氧化保护膜,从而提高铜及其合金的抗氧化性能和耐腐蚀性能。 | ||
搜索关键词: | 及其 合金 复合 离子 注入 表面 改性 方法 | ||
【主权项】:
1.一种铜及其合金的复合离子注入表面改性的方法,其特征在于,具体包括如下步骤:步骤一:首先对铜或者铜合金表面进行研磨、抛光,再用去离子水和有机液对样品表面进行清洗,烘干后备用;步骤二:采用复合离子注入工艺,将铜及其合金放入离子注入复合镀膜设备内,实现在铜及其合金表面同时注入非金属元素和金属元素。
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