[发明专利]光催化自洁搪瓷的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710041788.0 申请日: 2007-06-08
公开(公告)号: CN101067207A 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: 蒋伟忠;钱蕙春;王允夫;王瑛;王钢;王红玲;陈小英;陈丽芸 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: C23D11/00 分类号: C23D11/00;C23D5/02;C23D9/00;C23D1/00;C23D7/00;B01J21/06;C03C8/12
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 代理人: 黄志达;谢文凯
地址: 201620上海市松*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种光催化自洁搪瓷的制备方法,包括步骤:(1)根据面釉配方组成,将各种成分换算成石英,长石,硼砂,二氧化钛,纯碱,冰晶,称量混合,放入坩埚,熔化好后投入水中淬冷,捞出烘干制得搪瓷熔块;(2)混合搪瓷熔块、按粘土、电介质、和去离子水,研磨,过筛烘干;(3)除锈和除油污的钢板或铸铁,烘干,用浸搪方式对钢板或铸铁板涂搪瓷釉,烘干,烧制得搪瓷基板;(4)采用浸涂法,将已涂搪瓷的基板浸在二氧化钛胶体溶液,垂直提拉后,烘干,烧结,制成具有二氧化钛薄膜的搪瓷基板。本发明工艺简单,生产成本低,制得的光催化自洁搪瓷材料具有优良的光催化性能和化学稳定性。
搜索关键词: 光催化 搪瓷 制备 方法
【主权项】:
1.一种光催化自洁性能搪瓷制备方法,包括下列步骤:(1)根据面釉配方组成,将各种成分换算成石英,长石,硼砂,二氧化钛,纯碱,冰晶,称量混合,放入坩埚中,在1200~1300℃下进行熔化,熔化好后投入水中淬冷,捞出烘干制得搪瓷熔块;(2)混合搪瓷熔块、按粘土、电介质、和去离子水,球磨、研磨1~2个小时后,过筛烘干备用;(3)取钢板或铸铁,进行除锈和除油污处理,烘干,用浸搪方式对钢板涂搪瓷釉,然后在80~100℃烘干,在840~860℃烧制得搪瓷基板;(4)采用浸涂法,将搪瓷基板浸在二氧化钛胶体溶液,垂直提拉后,80-100℃烘干30-40分钟,350-450℃烧结1-2小时,制成具有二氧化钛薄膜的搪瓷基板;(5)重复(4)程序可以制得多层二氧化钛薄膜的搪瓷基板。
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