[发明专利]数字光刻技术的相位控制和补偿方法无效
申请号: | 200710022755.1 | 申请日: | 2007-05-29 |
公开(公告)号: | CN101093360A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 刘文海;刘军;胡亦宁;杨丹宁 | 申请(专利权)人: | 芯硕半导体(合肥)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及到一种用来在空间微反射镜阵列(DMD)数字光刻技术中的相位控制和补偿技术,具体是一种数字光刻技术的相位控制和补偿方法,该技术通过对相邻微反射镜的光信号相位的控制和补偿来实现无间隙的投影图形。该技术包含照射光源,至少一个的空间微反射镜阵列,一个光学投影器件和光敏感元件。它还包含将驱动信号传送到空间微镜阵列的电子数据处理和发送系统,用来移动所述工件的精密机械系统,以及对相位进行补偿的相位调制阵列和相关的控制系统。 | ||
搜索关键词: | 数字 光刻 技术 相位 控制 补偿 方法 | ||
【主权项】:
1、数字光刻技术的相位控制和补偿方法,其特征在于是通过一种提供入射光束的光源,经过光学集光系统将一束倾斜平行光照射到空间微反射镜阵列上,空间微反射镜阵列由计算机控制,使其上的各个微反射镜产生不同的对应倾斜,当微反射镜处于正向倾斜时,照射到对应的微反射镜上的光束被反射并进入远心结构的投影光学系统;当微反射镜处于反向倾斜时,照射到对应的微反射镜上的光束被反射并以大角度偏离远心结构的投影光学系统;通过对反射光进行相位调制,使投影光学系统产生一定的空间调制图形,在位于移动平台上光敏感元件衬底上进行曝光,实施光刻时无间隙连续曝光图形;所述的通过对反射光进行相位调制是指:设定光源的入射角度为θ,是空间微反射镜阵列上的微反射镜的倾斜角的二倍,相邻的微反射镜的反射光之间存在一个相位差ΔΦ,ΔΦ=P sinθ/λ;其中P是微反射镜阵列沿照射光源方向的空间排列周期,λ是入射光束的波长;通过设置和/或改变微反射镜阵列照射光源方向的相应的入射角度和光源波长,使得所述的相位差ΔΦ为整数,相邻微反射镜的反射光之间为同相位,相邻微反射镜的反射光之间相互叠加。
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