[发明专利]人工晶体生长用导流筒升降机构有效

专利信息
申请号: 200710021527.2 申请日: 2007-04-28
公开(公告)号: CN101294306A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 李留臣;冯䶮 申请(专利权)人: 冯金生
主分类号: C30B35/00 分类号: C30B35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213200江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明是一种人工晶体生长用导流筒升降机构,特别涉及半导体硅单晶生长和锗单晶生长用的导流筒升降机构。包括炉筒和炉底组成的真空工作室,真空工作室安装在基座上,三个(或者两个)直线运动组件均布安装在炉底上,通过电动机带动滑块和导杆作上下移动,导流筒安装在托板上,托板与导杆连接,导杆通过密封组件实现与真空工作室之间的密封。该发明的应用,可以提高人工晶体生长的单炉产量,提高生产效率,节能降耗。广泛适用于半导体硅单晶生长和锗单晶生长设备中。
搜索关键词: 人工 晶体生长 导流 升降 机构
【主权项】:
1、一种人工晶体生长用导流筒升降机构,包括炉筒4和炉底5组成的真空工作室,其特征在于真空工作室安装在基座10上,三个(或者两个)直线运动组件7均布安装在炉底5上,通过电动机9带动滑块8和导杆3作上下移动,导流筒2安装在托板1上,托板1与导杆3连接,导杆3通过密封组件6实现与真空工作室之间的密封。
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