[发明专利]人工晶体生长用导流筒升降机构有效
申请号: | 200710021527.2 | 申请日: | 2007-04-28 |
公开(公告)号: | CN101294306A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 李留臣;冯䶮 | 申请(专利权)人: | 冯金生 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213200江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明是一种人工晶体生长用导流筒升降机构,特别涉及半导体硅单晶生长和锗单晶生长用的导流筒升降机构。包括炉筒和炉底组成的真空工作室,真空工作室安装在基座上,三个(或者两个)直线运动组件均布安装在炉底上,通过电动机带动滑块和导杆作上下移动,导流筒安装在托板上,托板与导杆连接,导杆通过密封组件实现与真空工作室之间的密封。该发明的应用,可以提高人工晶体生长的单炉产量,提高生产效率,节能降耗。广泛适用于半导体硅单晶生长和锗单晶生长设备中。 | ||
搜索关键词: | 人工 晶体生长 导流 升降 机构 | ||
【主权项】:
1、一种人工晶体生长用导流筒升降机构,包括炉筒4和炉底5组成的真空工作室,其特征在于真空工作室安装在基座10上,三个(或者两个)直线运动组件7均布安装在炉底5上,通过电动机9带动滑块8和导杆3作上下移动,导流筒2安装在托板1上,托板1与导杆3连接,导杆3通过密封组件6实现与真空工作室之间的密封。
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