[发明专利]可清洗偏二甲肼及四氧化二氮的清洗剂及其制备方法无效
| 申请号： | 200710019037.9 | 申请日： | 2007-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN101298582A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 梁兴国;李宁;孟圈昌;杨超;兰海平;符全军 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第六研究院第一六五研究所 |
| 主分类号： | C11D7/30 | 分类号： | C11D7/30;C11D7/26 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王少文 |
| 地址： | 710100陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种可清洗偏二甲肼及四氧化二氮的清洗剂，包括二氯甲烷70～90份；低级醇5～15份；甲酸乙酯5～15份。将二氯甲烷加入反应容器中，边加低级醇边搅拌；再加入甲酸乙酯搅拌，即可得到清洗剂。本发明解决了现有非水系非ODS清洗剂产品价格昂贵且不能用于四氧化二氮清洗的技术问题，可用于偏二甲肼及四氧化二氮污染清洗、可与常见的金属非金属材料相容、可替代氟里昂CFC－113用于油类清洗、对人员健康无影响、对臭氧层破坏小、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 二甲 氧化 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种可清洗偏二甲肼及四氧化二氮的清洗剂，其特征在于：其包括以下体积份的组分：主溶剂：70～90份；功能改性剂：5～15份；助剂：5～15份；所述主溶剂为二氯甲烷；所述功能改性剂为低级醇；所述助剂为甲酸乙酯。
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