[发明专利]空间相锁定扫描电子束蚀刻方法无效
| 申请号： | 200710018173.6 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101324757A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 戴剑锋;王青;李维学;魏智强;冯旺军;姜金龙;马军;蒲忠胜;王道斌;任国栋;崔永福 | 申请（专利权）人： | 兰州理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 董斌 |
| 地址： | 730050甘肃*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 空间相锁定扫描电子束蚀刻方法，其目的是对电子束的位置进行高精度的实时测量，使电子束的位置测量精度达到1nm，在电子束蚀刻胶膜上蒸镀一层SiO膜，再在其上蒸镀一层Cu膜，在Cu膜上面涂一层的紫外光光学感光胶，用激光干涉蚀刻方法进行两次正交曝光，获得一基准网格，采用通用的扫描电子束蚀刻方法，通过探测基准网格发射的二次电子信号，确定电子束的空间位置。本发明在电子束感光材料上面制造一个光栅常数较大的基准网格，通过测量基准网格的二次电子信号的位相来确定电子束位置，实现了在书写过程中对电子束位置进行连续测量，并且可以精确控制各点的曝光剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 空间 锁定 扫描 电子束 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
1、空间相锁定扫描电子束蚀刻方法，其特征在于在电子束蚀刻胶膜上蒸镀一层SiO膜，再在其上蒸镀一层Cu膜，在Cu膜上面涂一层的紫外光光学感光胶，用激光干涉蚀刻方法进行两次正交曝光，获得一基准网格，采用通用的扫描电子束蚀刻方法，通过探测基准网格发射的二次电子信号，确定电子束的空间位置。
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