[发明专利]构图方法和显示装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710005497.6 申请日: 2007-02-08
公开(公告)号: CN101017880A 公开(公告)日: 2007-08-15
发明(设计)人: 金保成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/40;H01L51/56;H01L21/84;G02F1/1335
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种构图方法,其包括:在基膜上涂布光敏表面活性剂;在表面活性剂上形成有机层;通过在有机层上具有预定开口的掩模将表面活性剂曝光,从而减小表面活性剂和有机层之间的粘合度;将基膜粘接到绝缘基板,有机层面对绝缘基板;以及通过将基膜从绝缘基板分离,将对应于曝光的表面活性剂的有机层转移到绝缘基板。本方法提供了一种简化的构图工艺,和使用其的显示装置的制造方法。
搜索关键词: 构图 方法 显示装置 制造
【主权项】:
1、一种构图方法,包括:在基膜上涂布光敏表面活性剂;在所述表面活性剂上形成有机层;通过在所述有机层上具有预定开口的掩模将所述表面活性剂曝光,从而减小表面活性剂和有机层之间的粘合度;将基膜粘接到绝缘基板,所述有机层面对绝缘基板;以及通过将基膜从绝缘基板分离,将对应于曝光的表面活性剂的有机层转移到绝缘基板。
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