[发明专利]光敏的防反射底面涂层有效
| 申请号： | 200710005128.7 | 申请日： | 2003-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN100999582A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | D·J·古尔瑞罗 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | C08G75/24 | 分类号： | C08G75/24;C09D181/08;G03F7/09;G03C1/492;G03C1/76;G03C1/825 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯－砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上，形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时，所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶，使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去，由此取消单独的除去步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 反射 底面 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，它包含具有选自如下通式(II)的重复单体：![]()
式中，X1选自二醇和二肟的官能团部分；X2选自芳基和烷基；X1和X2中至少一个包含芳族基团。
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