[发明专利]用于照亮并检查表面的装置无效
| 申请号： | 200710000922.2 | 申请日： | 2007-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN101000464A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 丹纳·蓝伯特;海登·麦可;布特纳·艾立克斯恩德 | 申请（专利权）人： | 比斯泰克半导体系统股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 韩国韦茨拉尔D－35*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于照亮并检查镜面表面的装置，其包括：光源；集光器光学器件，用于收集来自光源的光；均匀化光学器件，用于透射来自集光器光学器件的光，具有位于集光器光学器件下游的第一微透镜阵列和位于第一微透镜阵列下游的第二微透镜阵列；傅里叶光学器件，用于将来自均匀化光学器件的光透射于镜面表面上；物镜光学器件；以及检测器，用于接收图像，其中集光器光学器件和第一微透镜阵列将光源投影于第二微透镜阵列上，且其中第二微透镜阵列和傅里叶光学器件将第一微透镜阵列投影于镜面表面上，且其中物镜光学器件将镜面表面投影于检测器上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 照亮 检查 表面 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于检查镜面表面的装置，其特征在于包括：光源；集光器光学器件，用于收集来自所述光源的光；均匀化光学器件，用于透射来自所述集光器光学器件的所述光，具有位于所述集光器光学器件下游的第一微透镜阵列和位于所述第一微透镜阵列下游的第二微透镜阵列；傅里叶光学器件，用于将来自所述均匀化光学器件的所述光透射于所述镜面表面上；物镜光学器件；以及检测器，用于记录图像；其中所述集光器光学器件和所述第一微透镜阵列将所述光源投影于所述第二微透镜阵列上，且其中所述第二微透镜阵列和所述傅里叶光学器件将所述第一微透镜阵列投影于所述镜面表面上，且其中所述物镜光学器件将所述镜面表面投影于所述检测器上。
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